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RT CT-05B X射線微米分辨率測(cè)試卡,微米技術(shù)實(shí)現(xiàn)了具有 16 種不同寬度（3 至 50μm）的高精度線對(duì)分辨率測(cè)試卡。 當(dāng)今，微焦點(diǎn)成為主流的 X 射線光束尺寸，而分辨率測(cè)試卡則是調(diào)整、設(shè)置、檢查和維護(hù) X 射線系統(tǒng)的必要工具。
日本JIMA RT CT-05B X射線微米分辨率測(cè)試卡
微米技術(shù)實(shí)現(xiàn)了具有 16 種不同寬度（3 至 50μm）的高精度線對(duì)分辨率測(cè)試卡。 當(dāng)今，微焦點(diǎn)成為主流的 X 射線光束尺寸，而分辨率測(cè)試卡則是調(diào)整、設(shè)置、檢查和維護(hù) X 射線系統(tǒng)的必要工具。
RT CT-05B X射線微米分辨率測(cè)試卡
規(guī)格尺寸：40 x 30 mm, 3mm 厚度
硅基：8 x 8 mm, 0.2mm 厚度
吸收材料：金，厚度≥1.0μm
保護(hù)膜：鋁蒸汽保護(hù)膜，厚度 0.1mm
線數(shù)：3 線（只有 3-10μm：6 線）
線條寬度（線條與間距寬度相同）：
T 型布局 3、4、5、6、7、8、9、10μm；
Ｉ型布局 15、20、25、30、35、40、45、50μm
線對(duì)寬度公差：±10%
工作溫度：+10℃至+70℃
RT CT-05B X射線微米分辨率測(cè)試卡
規(guī)格尺寸：40 x 30 mm, 3mm 厚度
硅基：8 x 8 mm, 0.2mm 厚度
吸收材料：金，厚度≥1.0μm
保護(hù)膜：鋁蒸汽保護(hù)膜，厚度 0.1mm
線數(shù)：3 線（只有 3-10μm：6 線）
線條寬度（線條與間距寬度相同）：
T 型布局 3、4、5、6、7、8、9、10μm；
Ｉ型布局 15、20、25、30、35、40、45、50μm
線對(duì)寬度公差：±10%
工作溫度：+10℃至+70℃
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